1：30应是“光源波长越长，衍射问题越严重”，口误很抱歉！

一口气看完，讲得很好。

謝謝分享

专业术语通俗化，点点赞！！！！！

用壓印的感覺就會很多particle, 到時候measure又被打Defect HL好一點能水洗，差一點就乖乖scrap了。而且這種製程感覺Qtime也是很短，感覺就是很難搞的wafer

光刻机在台灣半導體界稱為曝光機，曝光機才是名符其實的正確名稱。光刻机是錯誤稱法，曝光機不會刻任何東西。它和洗照片一樣方法。中國在科技界使用許多錯誤稱法。當年我還用手劃光罩片呢。刻也不是真正的刻，是用洗、和滲

麻烦讲讲掺杂工艺（扩散/离子注入）吧

我在想女粉会不会更关注三圈的肌肉，哈哈，很精彩的分享，多谢

Please add English subtitles in this video and future videos. Thanks.

才一个亿。嗯 ，也不错 😃

对5:23的图有些困惑，为什么在光刻胶被压制出T型凹槽后，这部分在下一步骤就变成晶圆了呢？我之前的理解都是光刻胶被镂空的位置，对下面的晶圆进行蚀刻或者离子注入。

真的智慧折射鏡來了改變分子結構😂

難道製造納米壓印的模版就不需要EUV嗎？

应该是去硬存软吧00:45

NIL 在奈米尺度的困難更高，至少目前還不是 ASML 的對手，看股價就知道了。

做流片有没有优势

比较想知道做个模板也需要用到EUV是吗？

@user-ct7fq3je9d

8 ай бұрын

是的

为什么不说一下那个压印用到的模板是如何制造出来的？因为是1：1，所以制作起来应该也是极艰巨的挑战吧？

@user-ct7fq3je9d

8 ай бұрын

其实也要用光刻机

@ericko9431

2 ай бұрын

我也有同樣的問題..

三圈谈谈最近在网上很火的清华大学SSMB-EUV光刻机吧

@mjk7530

7 ай бұрын

二三十年前的技術複製出來而已

压印我感觉比曝光更难吧，晶圆那么吹弱

DRAM目前还是太贵了， AI的本地化运行需要很大的内存。也许纳米压印是AI普及化的关键

1

留一个联系方式吧

那么压印掩模版怎么做，什么材料？估计也是商业秘密都没公开吧， 不然不会不提， 是吧😆

@tan3quan

9 ай бұрын

用光刻/电子束刻蚀，具体材料肯定不会提的啦

和活字印刷术有吊毛关系

@eeo9040

4 ай бұрын

终于找到了满足你自虐的心里所需要的东西

听着好像，是一条错误的技术路线，但日本已经没有路可以走了，不得不走下去

Canon 是日本公司，日本是美國的殖民地，NIL 再好對中國還是會被技術封鎖，除非中國國內有國產的納米壓印技術研發。

@user-ct7fq3je9d

8 ай бұрын

有的

@eeo9040

4 ай бұрын

还没有一点实际性进展就想到要政治斗争，这个大脑也是僵化了

沒講清楚,如何做出初模?!